Антиоксидантная очищающая маска для лица 'Защита и Восстановление'

Глиняная маска Anew содержит каолиновую глину, которая глубоко очищает кожу, не сушит и не стягивает ее, сужает поры. Салициловую кислоту, которая борется с несовершенствами кожи на глубинном уровне. Оризанол, который обладает мощным антиоксидантным эффектом и формирует защитный UF-барьер.
Способ применения:
Нанесите на очищенную кожу тонким слоем. Оставьте на 15 минут. Смойте маску теплой водой.